石墨坩堝爐內(nèi)溫度分布不均，局部過熱

石墨坩堝爐內(nèi)溫度散布不均，部分過熱
中頻爐若線圈繞制不均或坩堝放置偏疼，會(huì)導(dǎo)致部分溫度過高（溫差＞100℃）。例如：坩堝一側(cè)溫度1200℃，另一側(cè)1000℃，熱膨脹差異會(huì)發(fā)生橫向應(yīng)力，導(dǎo)致側(cè)壁裂開。某銅合金廠的爐溫檢測(cè)閃現(xiàn)，偏疼放置的坩堝，溫差達(dá)150℃，第7爐次就出現(xiàn)貫穿性裂紋。
高純石墨坩堝在氧化性氣氛（如空氣、水汽）中會(huì)緩慢氧化，若真空爐密封不嚴(yán)（真空度＜10Pa）或維護(hù)氣體（氬氣）純度缺少（含氧量＞0.1%），氧化速度會(huì)加速。氧化后的石墨強(qiáng)度下降40%，在熱應(yīng)力效果下易裂開。某廠因氬氣純度不可（含氧量 0.5%），坩堝運(yùn)用10爐次后側(cè)壁就因氧化變薄而裂開。

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