石墨坩堝的熔點與其純度密切相關，純度越高，熔點越挨近石墨資料的理論值，且高溫穩定性更強。以下是具體分析：
    石墨坩堝的熔點主要由石墨資料的特性決定，石墨的熔點理論上可到達3652℃~3850℃。純度是影響其實踐熔點表現的關鍵因素，高純度石墨坩堝（如灰分<20ppm）的雜質含量極低，分子結構更挨近理想狀況，因而其熔點更挨近理論值，在高溫環境下可以保持穩定的物理和化學性質。而低純度石墨坩堝因含有較多雜質，這些雜質在高溫下可能發生相變或揮發，導致部分結構變化，然后下降其實踐熔點，乃至引發性能劣化。
    在實踐應用中，高純度石墨坩堝的優勢尤為顯著。例如，在熔煉貴金屬、高純金屬或進行半導體資料制備時，高溫環境對坩堝的耐熱性要求極高。高純度石墨坩堝憑借其挨近理論值的熔點和優異的化學穩定性，可以有用避免雜質對熔體的污染，確保產品質量。